Компания Intel сообщила, что обработала один миллион 300-мм кремниевых пластин с использованием литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV) с высокой числовой апертурой (High-NA). Использование High-NA EUV в производстве кремниевых микросхем сопряжено со многими трудностями из-за дополнительной сложности процесса.
Содержание статьи
- 1 Обзор смартфона Samsung Galaxy Z Flip8: исчезающий вид?
- 2 Снято в Голливуде? Почему Стэнли Кубрик физически не смог бы подделать лунную походку
- 3 10 флагманских процессоров Intel за 10 лет
- 4 Компьютер месяца, спецвыпуск: во что дефицит чипов памяти превратил бюджетные игровые ПК и при чем здесь Steam Machine
- 5 Выбираем лучшие игровые ноутбуки на российском рынке (вторая половина 2026 года)
- 6 Лучший процессор под DDR4 в 2026 году: AM4 против LGA 1700
- 7 Сравнительный тест камер флагманских смартфонов (2026): итоги
- 8 Топ-10 смартфонов до 10 тысяч рублей (2026 год)
Обзор смартфона Samsung Galaxy Z Flip8: исчезающий вид?
Снято в Голливуде? Почему Стэнли Кубрик физически не смог бы подделать лунную походку
10 флагманских процессоров Intel за 10 лет
Компьютер месяца, спецвыпуск: во что дефицит чипов памяти превратил бюджетные игровые ПК и при чем здесь Steam Machine
Выбираем лучшие игровые ноутбуки на российском рынке (вторая половина 2026 года)
Лучший процессор под DDR4 в 2026 году: AM4 против LGA 1700
Сравнительный тест камер флагманских смартфонов (2026): итоги
Топ-10 смартфонов до 10 тысяч рублей (2026 год)
Источник изображения: Intel
В 2024 году Intel установила системы ASML TWINSCAN EXE:5000 High-NA EUV для исследований и тестирования технологического процесса 14A. Однако с тех пор Intel нашла более эффективные способы использования инструментов High-NA за пределами норм 14A, расширив их применение на нормы 18A.
Для некоторых моделей микросхем процессоров Panther Lake Intel использует наложение нескольких слоёв кремния с помощью экспонирования High-NA, вместо того чтобы полагаться исключительно на Low-NA. Более того, Intel предлагает эту конфигурацию High-NA внешним клиентам, поскольку она может быть выгодна и для них. В сотрудничестве с ASML компания Intel завершила приёмочные испытания на заводе Intel Foundry для своего техпроцесса 14A с целью повышения эффективности производства кремниевых пластин. Для этого использовался сканер TWINSCAN EXE:5200B — вторая версия сканера High-NA EUV от ASML после TWINSCAN EXE:5000, который Intel первоначально использовала для пробных запусков 14A. Ранее Intel сообщала, что за один квартал обрабатывает более 30 000 пластин, упростив производственный процесс за счёт сокращения количества этапов, необходимых для обработки одного слоя, с 40 до менее чем 10, что значительно ускорило производственный цикл.
На данный момент Intel остаётся единственной компанией, которая активно производит полупроводники с использованием EUV-литографии с высокой числовой апертурой. TSMC утверждает, что может сохранить конкурентное преимущество, используя существующую технологию EUV-литографии с низкой числовой апертурой, уменьшая размер техпроцесса и внося улучшения с каждым новым поколением.
По некоторым данным, Samsung Foundry отложит внедрение EUV-литографии с высокой числовой апертурой до 2030 года для своего 1-нм техпроцесса, так что до полного перехода всей отрасли на литографию с высокой числовой апертурой осталось ещё несколько лет. Оборудование с низкой числовой апертурой вдвое дешевле передовых EUV-систем с высокой числовой апертурой. Самая современная EUV-система с высокой числовой апертурой от ASML стоит около $400 млн, что делает её невероятно дорогой даже для современного завода по производству полупроводников.
Было интересно?
Скажите об этом Google, чтобы чаще получать ссылки на наши новости про технологии и рынок it
